20 RUE PROFESSEUR BENOIT LAURAS
42000 SAINT-ETIENNE
France
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Bertrand Claude Marcel NICOLET " INSTITUT DE RECHERCHES EN INGÉNIÉRIE DES SURFACES ", Président du conseil d'administration
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Pierre CHALANDON CENTRE TECHNIQUE DES INDUSTRIES MECANIQUES - CETIM, Administrateur
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Pascal FARELLA WEARE TECH, Administrateur
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Yvan Pierre Gérard CHALAMET UNIVERSITE JEAN MONNET, Administrateur
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Eric Marie DUFLOT ECOLE NATIONALE SUPERIEURE DES MINES DE SAINT ETIENNE, Administrateur
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Jean-Luc Bernard LOUBET ECOLE CENTRALE DE LYON, Administrateur
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Bertrand Claude Marcel NICOLET " INSTITUT DE RECHERCHES EN INGÉNIÉRIE DES SURFACES ", Administrateur
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Yvan Pierre Gérard CHALAMET UNIVERSITE JEAN MONNET, Membre
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Pierre CHALANDON CENTRE TECHNIQUE DES INDUSTRIES MECANIQUES - CETIM, Membre
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Eric Marie DUFLOT ECOLE NATIONALE SUPERIEURE DES MINES DE SAINT ETIENNE, Membre
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Pascal FARELLA WEARE TECH, Membre
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Philippe Georges Charles MAURIN-PERRIER " INSTITUT DE RECHERCHES EN INGÉNIÉRIE DES SURFACES ", Membre
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Francois Michel Gabriel GRILLET, Contrôleur de gestion
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AXENS SAINT-ETIENNE, Contrôleur des comptes
42000 SAINT-ETIENNE
France
Chiffres-clés
Scoring financier
Compte tenu de sa forme juridique, cette entreprise n'est pas assujettie à publier ses comptes annuels.
La note de score ne tient pas compte d'informations bilantielles.
Cette structure opère dans un secteur d'activité relativement peu risqué.
Cette entreprise a passé le cap des 10 ans d'existence. Elle bénéficie donc d'une forte maturité.
Affaire de taille limitée, son effectif est de 10 personnes.
Cette entité présente des signes d'activité importants.
L'analyse des balances âgées des sociétés membres de l'observatoire des comportements de paiements D&B nous indique que cette entreprise paye ses fournisseurs dans les délais convenus.
Le comportement de paiement actuel est comparable à celui observé sur les 3 dernières valeurs de l'historique arrétées au 15 de chaque mois.
Le risque de défaillance est modéré. Une transaction commerciale est envisageable, nous vous conseillons de suivre son évolution.